第1章 個別の heat スタックを使用したデプロイメントの作成
Red Hat OpenStack Platform 環境で個別の heat スタックを使用する場合、director が実行する管理操作を分離することができます。たとえば、コントロールプレーンスタックが管理するコントローラーノードを更新せずに、コンピュートノードをスケーリングすることができます。この手法を使用して、複数の Red Hat Ceph Storage クラスターをデプロイすることもできます。
1.1. 個別の heat スタックの使用
通常の Red Hat OpenStack Platform のデプロイメントでは、単一の heat スタックはコントロールプレーン (コントローラー) を含むすべてのノードを管理します。個別の heat スタックを使用して、以前のアーキテクチャー制約に対応することができるようになりました。
- 異なるノード種別には、個別の heat スタックを使用します。たとえば、コントロールプレーン、コンピュートノード、および HCI ノードは、それぞれ独自のスタックで管理できます。これにより、コントロールプレーンに影響を与えずにコンピュートスタックを変更またはスケーリングできます。
- 同じサイトで個別の heat スタックを使用して、複数の Ceph クラスターをデプロイすることができます。
- 同じデータセンター内の異なるアベイラビリティーゾーン (AZ) には、個別の heat スタックを使用することができます。
分散コンピュートノード (DCN) アーキテクチャーを使用する Red Hat OpenStack Platform のデプロイには、個別の heat スタックが必要です。これにより、中央データセンターへのネットワークおよび管理の依存関係を減らすことができます。このアーキテクチャーの各エッジサイトには、コンピュートノードとストレージノードの両方からの独自の AZ も必要です。
この機能は、本リリースでは テクノロジープレビュー として提供しているため、Red Hat では全面的にはサポートしていません。これは、テスト用途にのみご利用いただく機能で、実稼働環境にデプロイすべきではありません。テクノロジープレビュー機能についての詳しい情報は、「対象範囲の詳細」を参照してください。